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进口光刻胶
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进口光刻胶
进口光刻胶
进口光刻胶是针对会腐蚀的称底优化的剥离液,可以在常温下使用,以减少高温挥发损失,可去除plasma 蚀刻后的有机残留,减少金属离子污染,去胶效率高--2000 wafers/gallon,光刻胶对铝铜衬底不会腐蚀,适用于剥离在后烘, 离子注入和干法蚀刻之后的残留,含有抗腐蚀剂以减轻对于称底的腐蚀性,可适用于常温、短时间剥离工艺。
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